System, method and apparatus for target material debris cleaning of euv vessel and euv collector

WO2017127182 Art A1 27. Juli 2017

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2017127182
Aktenzeichen: EP16886786
Anmeldetag: 13. Dezember 2016
Veröffentlichung: 27. Juli 2017
Rechtsraum: WO
IPC: A61N5/06G01J3/10H05G2/00B08B6/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ASML Netherlands B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik Medizintechnik & Gesundheit Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Verfahrens- & Trenntechnik

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