Process and chemistry of plating of through silicon vias

WO2017127197 Art A1 27. Juli 2017

Anmelder: Applied Materials, Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2017127197
Aktenzeichen: EP16886790
Anmeldetag: 19. Dezember 2016
Veröffentlichung: 27. Juli 2017
Rechtsraum: WO
IPC: C25D7/12C23C18/16C23C18/32C23C16/22C23C16/40C23C28/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Applied Materials, Inc.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Applied Materials

US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.

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Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von