Porous Chemical Mechanical Polishing Pads

WO2017127221 Art A1 27. Juli 2017

Anmelder: Applied Materials, Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2017127221
Aktenzeichen: EP16886799
Anmeldetag: 29. Dezember 2016
Veröffentlichung: 27. Juli 2017
Rechtsraum: WO
IPC: B24D18/00B24B3/28B24B37/22B24B37/24C08J9/06C08J9/14

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Applied Materials, Inc.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Applied Materials

US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.

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Fachgebiete

Kunststoff- & Polymertechnik Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik

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