Resist pattern forming method

WO2017130873 Art A1 3. August 2017

Anmelder: Zeon Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2017130873
Aktenzeichen: EP17744103
Anmeldetag: 20. Januar 2017
Veröffentlichung: 3. August 2017
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/039C08F212/14C08F222/18G03F7/20G03F7/32H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: Zeon Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Zeon

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Zeon Corporation entwickelt synthetische Kautschuke, Spezialchemikalien und Elastomere für Anwendungen in Automobil-, Elektronik- und Batterieindustrie.

2.552 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

Vertreten von