Cylindrical ceramic-based sputtering target material and cylindrical ceramic-based sputtering target configured by joining one or more cylindrical ceramic-based sputtering target materials to backing tube

WO2017131111 Art A1 3. August 2017

Anmelder: JX Nippon Mining & Metals Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2017131111
Aktenzeichen: EP17744341
Anmeldetag: 26. Januar 2017
Veröffentlichung: 3. August 2017
Rechtsraum: WO
IPC: C23C14/34C04B35/01C04B37/02

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JX Nippon Mining & Metals Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JX Nippon Mining & Metals

JX Nippon Mining & Metals Corporation ist ein japanisches Unternehmen der Nichteisenmetallindustrie, das Kupfer, Halbleitermaterialien und Metallverarbeitung herstellt, Teil der ENEOS-Gruppe.

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Fachgebiete

Anorganische Chemie & Werkstoffe Metallurgie & Oberflächentechnik

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