Systems and methods for detecting the existence of one or more environmental conditions within a substrate processing system
WO2017132203
Art A1
3. August 2017
Anmelder: Applied Materials, Inc. 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2017132203
- Aktenzeichen
- EP17744804
- Anmeldetag
- 25. Januar 2017
- Veröffentlichung
- 3. August 2017
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L21/677H01L21/67
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Applied Materials, Inc.
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Applied Materials
US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.
10.780 Patente in unserer Datenbank
Fachgebiete
Vertreten von
Kein Vertreter erfasst.