A shadow mask with tapered openings formed by double electroforming

WO2017132907 Art A1 10. August 2017

Anmelder: Applied Materials, Inc., Maxell Holdings, Ltd. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2017132907
Aktenzeichen: EP16888732
Anmeldetag: 3. Februar 2016
Veröffentlichung: 10. August 2017
Rechtsraum: WO
IPC: C23C14/04

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firmen: Applied Materials, Inc.
Maxell Holdings, Ltd.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Applied Materials

US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.

6.825 Patente in unserer Datenbank

🇯🇵 Maxell

Maxell ist ein japanischer Hersteller von Batterien, optischen Speichermedien und elektronischen Komponenten mit Sitz in Tokio. Das Unternehmen ging aus Hitachi Maxell hervor und wurde 2014 eigenständig.

584 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von