Pattern formation method, method for manufacturing electronic device, and actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition

WO2017135003 Art A1 10. August 2017

Anmelder: FUJIFILM Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2017135003
Aktenzeichen: EP17747165
Anmeldetag: 12. Januar 2017
Veröffentlichung: 10. August 2017
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20G03F7/004G03F7/038G03F7/039

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: FUJIFILM Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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