Instrumented substrate apparatus for acquiring measurement parameters in high temperature process applications
WO2017136282
Art A1
10. August 2017
Anmelder: Kla-Tencor Corporation 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2017136282
- Aktenzeichen
- EP17747981
- Anmeldetag
- 30. Januar 2017
- Veröffentlichung
- 10. August 2017
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L21/66H01L21/67
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Kla-Tencor Corporation
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
KLA Corporation
US-amerikanisches Unternehmen (frühere Firmierung KLA-Tencor), das Prozesskontroll- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung entwickelt.
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