Lithographic apparatus, method for unloading a substrate and method for loading a substrate

WO2017137129 Art A1 17. August 2017

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2017137129
Aktenzeichen: EP16816704
Anmeldetag: 22. Dezember 2016
Veröffentlichung: 17. August 2017
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20H01L21/683H01L21/687

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ASML Netherlands B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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