Sputtering target for magnetic recording medium, and magnetic thin film

WO2017141557 Art A1 24. August 2017

Anmelder: JX Nippon Mining & Metals Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2017141557
Aktenzeichen: EP17752821
Anmeldetag: 4. Januar 2017
Veröffentlichung: 24. August 2017
Rechtsraum: WO
IPC: C23C14/34C23C14/06G11B5/64G11B5/851H01F10/16H01F41/18

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JX Nippon Mining & Metals Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JX Nippon Mining & Metals

JX Nippon Mining & Metals Corporation ist ein japanisches Unternehmen der Nichteisenmetallindustrie, das Kupfer, Halbleitermaterialien und Metallverarbeitung herstellt, Teil der ENEOS-Gruppe.

1.069 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Akustik, Musik & Datenspeicherung Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von