Semiconductor wafer heat treatment method
WO2017141652
Art A1
24. August 2017
Anmelder: Shin-Etsu Handotai Co., Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2017141652
- Aktenzeichen
- EP17752915
- Anmeldetag
- 26. Januar 2017
- Veröffentlichung
- 24. August 2017
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L21/26H01L21/683
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Shin-Etsu Handotai Co., Ltd.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Shin-Etsu Handotai
Japanisches Unternehmen der Shin-Etsu-Gruppe, das Siliziumwafer für die Halbleiterindustrie herstellt.
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Fachgebiete
Vertreten von
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