Gas Optimization in A Gas Discharge Light Source

WO2017142705 Art A1 24. August 2017

Anmelder: Cymer, LLC 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2017142705
Aktenzeichen: EP17753631
Anmeldetag: 31. Januar 2017
Veröffentlichung: 24. August 2017
Rechtsraum: WO
IPC: H01S3/11H01S3/23H01S3/036H01S3/225

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Cymer, LLC
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Cymer

Cymer ist ein US-amerikanisches Unternehmen für Lichtquellen zur Halbleiterlithografie, das zum ASML-Konzern gehört. Das Patentportfolio konzentriert sich sehr stark auf Halbleiter und elektrische Bauelemente sowie Optik und Fototechnik. Anmeldungen laufen kontinuierlich seit dem Jahr 2000.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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