Photo-Sensitized Chemically Amplified Resist (ps-Car) Simulation
WO2017143163
Art A1
24. August 2017
Anmelder: Tokyo Electron Limited, Osaka University 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2017143163
- Aktenzeichen
- EP17753906
- Anmeldetag
- 17. Februar 2017
- Veröffentlichung
- 24. August 2017
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- G03F7/20G03F7/26G03F7/16H01L21/027
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- Tokyo Electron Limited
Osaka University - Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Tokyo Electron
Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.
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🇯🇵
Osaka University
Staatliche Universität in Osaka, Japan, eine der führenden Forschungsuniversitäten des Landes mit Schwerpunkten in Naturwissenschaften, Medizin und Ingenieurwesen.
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Vertreten von
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