Method of controlling a patterning process, lithographic apparatus, metrology apparatus lithographic cell and associated computer program

WO2017144343 Art A1 31. August 2017

Anmelder: ASML Netherlands B.V., LAM Research Corporation 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2017144343
Aktenzeichen: EP17715048
Anmeldetag: 16. Februar 2017
Veröffentlichung: 31. August 2017
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: ASML Netherlands B.V.
LAM Research Corporation
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

3.336 Patente in unserer Datenbank

🇺🇸 Lam Research

US-amerikanischer Hersteller von Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie mit Sitz in Fremont, Kalifornien, spezialisiert auf Ätz- und Beschichtungssysteme (Deposition) für die Chipproduktion.

491 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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