Substrate treatment apparatus, semiconductor device manufacturing method, and computer-readable recording medium

WO2017145261 Art A1 31. August 2017

Anmelder: Kokusai Electric Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2017145261
Aktenzeichen
EP16891420
Anmeldetag
23. Februar 2016
Veröffentlichung
31. August 2017
Rechtsraum
WO
IPC
H01L21/20H01L21/268
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
Kokusai Electric Corporation
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 Kokusai Electric

Kokusai Electric ist ein japanischer Hersteller von Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie mit Schwerpunkt Wärmebehandlungssysteme. Das Patentportfolio konzentriert sich fast vollständig auf Halbleiter- und elektrische Bauelemente sowie Metallurgie und Oberflächentechnik. Anmeldungen sind seit 2000 dokumentiert.

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