Method for manufacturing laminate and method for manufacturing semiconductor device
WO2017146153
Art A1
31. August 2017
Anmelder: FUJI-FILM Corporation 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2017146153
- Aktenzeichen
- EP17756591
- Anmeldetag
- 23. Februar 2017
- Veröffentlichung
- 31. August 2017
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- G03F7/40B32B15/088G03F7/037G03F7/038G03F7/38H01L21/312
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- FUJI-FILM Corporation
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Fujifilm
Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.
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