Barrier layer for correlated electron material
WO2017149285
Art A1
8. September 2017
Anmelder: Arm Ltd 🇬🇧
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2017149285
- Aktenzeichen
- EP17708878
- Anmeldetag
- 27. Februar 2017
- Veröffentlichung
- 8. September 2017
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L45/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Arm Ltd
- Land
- 🇬🇧 Großbritannien
🇬🇧
Arm
Britisches Unternehmen mit Sitz in Cambridge, das Prozessorarchitekturen und Halbleiter-IP entwickelt und lizenziert.
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Fachgebiete
Vertreten von
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