Substrate treatment apparatus, method for manufacturing semiconductor device, and recording medium

WO2017149663 Art A1 8. September 2017

Anmelder: Kokusai Electric Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2017149663
Aktenzeichen: EP16892507
Anmeldetag: 1. März 2016
Veröffentlichung: 8. September 2017
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/324H01L21/20H01L21/265H01L21/268

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Kokusai Electric Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Kokusai Electric

Kokusai Electric ist ein japanischer Hersteller von Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie mit Schwerpunkt Wärmebehandlungssysteme. Das Patentportfolio konzentriert sich fast vollständig auf Halbleiter- und elektrische Bauelemente sowie Metallurgie und Oberflächentechnik. Anmeldungen sind seit 2000 dokumentiert.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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