Method for producing planarization film, active light sensitive or radiation sensitive composition for forming planarization film, planarization film, and method for manufacturing electronic device

WO2017150094 Art A1 8. September 2017

Anmelder: FUJI-FILM Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2017150094
Aktenzeichen: EP17759565
Anmeldetag: 7. Februar 2017
Veröffentlichung: 8. September 2017
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/038G03F7/004G03F7/09G03F7/20H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: FUJI-FILM Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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