Semiconductor/insulator reversible-change thin film and method for manufacturing same

WO2017150617 Art A1 8. September 2017

Anmelder: National Institute of Advanced Industrial Science and Technology 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2017150617
Aktenzeichen: EP17760081
Anmeldetag: 1. März 2017
Veröffentlichung: 8. September 2017
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/8239H01L21/336H01L21/368H01L27/105H01L29/786H01L45/00H01L49/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: National Institute of Advanced Industrial Science and Technology
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 National Institute of Advanced Industrial Science and Technology

Staatliches japanisches Forschungsinstitut (AIST), das breit angelegte angewandte Forschung in Bereichen wie Materialwissenschaft, Energie, Elektronik und Biotechnologie betreibt.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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