Cleaning solution and cleaning method for a semiconductor substrate or device
WO2017150620
Art A1
8. September 2017
Anmelder: Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2017150620
- Aktenzeichen
- EP17760084
- Anmeldetag
- 1. März 2017
- Veröffentlichung
- 8. September 2017
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L21/304C11D7/32C11D7/50C11D17/08H01L21/027
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Tokyo Ohka Kogyo
Tokyo Ohka Kogyo (TOK) ist ein japanischer Chemiekonzern, der vor allem Fotolacke und Materialien für die Halbleiterfertigung herstellt. Das Portfolio konzentriert sich entsprechend auf Optik und Fototechnik sowie Halbleiter- und Bauelemente-Technik, ergänzt durch Kunststoff- und organische Chemie. Anmeldungen sind von 2000 bis in die Gegenwart belegt.
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