Cleaning solution and cleaning method for a semiconductor substrate or device

WO2017150620 Art A1 8. September 2017

Anmelder: Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2017150620
Aktenzeichen
EP17760084
Anmeldetag
1. März 2017
Veröffentlichung
8. September 2017
Rechtsraum
WO
IPC
H01L21/304C11D7/32C11D7/50C11D17/08H01L21/027
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd.
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 Tokyo Ohka Kogyo

Tokyo Ohka Kogyo (TOK) ist ein japanischer Chemiekonzern, der vor allem Fotolacke und Materialien für die Halbleiterfertigung herstellt. Das Portfolio konzentriert sich entsprechend auf Optik und Fototechnik sowie Halbleiter- und Bauelemente-Technik, ergänzt durch Kunststoff- und organische Chemie. Anmeldungen sind von 2000 bis in die Gegenwart belegt.

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