Method and apparatus for purifying target material for euv light source

WO2017151288 Art A1 8. September 2017

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2017151288
Aktenzeichen: EP17760459
Anmeldetag: 9. Februar 2017
Veröffentlichung: 8. September 2017
Rechtsraum: WO
IPC: C01G19/02C22B7/04C22B25/08G21K5/08

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ASML Netherlands B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Anorganische Chemie & Werkstoffe Elektrische Energietechnik Metallurgie & Oberflächentechnik

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