Level sensor and lithographic apparatus
WO2017153069
Art A1
14. September 2017
Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2017153069
- Aktenzeichen
- EP17702018
- Anmeldetag
- 17. Januar 2017
- Veröffentlichung
- 14. September 2017
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- G03F9/00G01B11/06G01B11/25
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- ASML Netherlands B.V.
- Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
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