Method of calculating corrections for controlling a manufacturing process, metrology apparatus, device manufacturing method and modeling method

WO2017153171 Art A1 14. September 2017

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2017153171
Aktenzeichen: EP17706760
Anmeldetag: 22. Februar 2017
Veröffentlichung: 14. September 2017
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: ASML Netherlands B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

3.336 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Optik & Fototechnik

Vertreten von