Chemical Vapour Deposition From A Radiation-Sensitive Precursor

WO2017153510 Art A1 14. September 2017

Anmelder: Danmarks Tekniske Universitet 🇩🇰

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2017153510
Aktenzeichen: EP17709445
Anmeldetag: 9. März 2017
Veröffentlichung: 14. September 2017
Rechtsraum: WO
IPC: C23C16/26C23C16/34C23C16/44C23C16/455C23C16/48

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Danmarks Tekniske Universitet
Land: 🇩🇰 Dänemark

🇩🇰 Danmarks Tekniske Universitet

Dänische Technische Universität mit Sitz in Kongens Lyngby (DK), eine der führenden Ingenieurs- und Naturwissenschaftshochschulen des Landes. Die Patente stammen aus universitärer Forschung in Technik und Naturwissenschaften.

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Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik

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