Active light sensitive or radiation sensitive resin composition, resist film, pattern forming method and method for manufacturing electronic device

WO2017154345 Art A1 14. September 2017

Anmelder: FUJIFILM Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2017154345
Aktenzeichen: EP17762692
Anmeldetag: 13. Januar 2017
Veröffentlichung: 14. September 2017
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/004C07C309/12C07C309/17C07C381/12G03F7/038G03F7/039G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: FUJIFILM Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

21.752 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Optik & Fototechnik Organische Chemie

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