Film formation material for resist process, pattern formation method, and polymer

WO2017154545 Art A1 14. September 2017

Anmelder: JSR Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2017154545
Aktenzeichen: EP17762888
Anmeldetag: 20. Februar 2017
Veröffentlichung: 14. September 2017
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/11G03F7/32H01L21/027C08G77/14

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JSR Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

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