Optische Vorrichtung für eine Lithographieanlage sowie Lithographieanlage

WO2017157602 Art A1 21. September 2017

Anmelder: Carl Zeiss SMT GmbH 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2017157602
Aktenzeichen: EP17705122
Anmeldetag: 14. Februar 2017
Veröffentlichung: 21. September 2017
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20G02B7/182

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Carl Zeiss SMT GmbH
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Carl Zeiss SMT

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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