Processing device, sputtering device, and collimator

WO2017158980 Art A1 21. September 2017

Anmelder: Kabushiki Kaisha Toshiba 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2017158980
Aktenzeichen: EP16894597
Anmeldetag: 19. Dezember 2016
Veröffentlichung: 21. September 2017
Rechtsraum: WO
IPC: C23C14/54H01L21/285

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Kabushiki Kaisha Toshiba
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Toshiba

Japanischer Konzern, der Elektronik, Halbleiter, Energie- und Infrastrukturtechnik sowie Industrieanlagen entwickelt und herstellt.

13.649 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von

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