Substrate having metal nanowire layer formed thereon and method for manufacturing same

WO2017159698 Art A1 21. September 2017

Anmelder: Osaka University, Showa Denko K.K. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2017159698
Aktenzeichen: EP17766696
Anmeldetag: 14. März 2017
Veröffentlichung: 21. September 2017
Rechtsraum: WO
IPC: H01B5/14B32B5/16B32B15/02B32B15/08B32B27/12B82Y30/00B82Y40/00H01B13/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: Osaka University
Showa Denko K.K.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Osaka University

Staatliche Universität in Osaka, Japan, eine der führenden Forschungsuniversitäten des Landes mit Schwerpunkten in Naturwissenschaften, Medizin und Ingenieurwesen.

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🇯🇵 Showa Denko

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio, seit 2023 als Resonac Holdings firmierend. Aktiv in Petrochemie, Elektronikmaterialien, Batteriematerialien sowie Halbleiterchemikalien.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik

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