Detection device and detection method

WO2017163697 Art A1 28. September 2017

Anmelder: Shin-Etsu Handotai Co., Ltd., Rayresearch Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2017163697
Aktenzeichen: EP17769743
Anmeldetag: 20. Februar 2017
Veröffentlichung: 28. September 2017
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/66G01N21/956

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firmen: Shin-Etsu Handotai Co., Ltd.
Rayresearch Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Shin-Etsu Handotai

Japanisches Unternehmen der Shin-Etsu-Gruppe, das Siliziumwafer für die Halbleiterindustrie herstellt.

1.022 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik

Vertreten von

Kein Vertreter erfasst.

Noch Fragen?

Wir helfen Ihnen gerne weiter. Schreiben Sie uns einfach.

Kontakt aufnehmen