Charged particle beam device and method for adjusting charged particle beam device

WO2017168482 Art A1 5. Oktober 2017

Anmelder: Hitachi High-Technologies Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2017168482
Aktenzeichen: EP16896702
Anmeldetag: 28. März 2016
Veröffentlichung: 5. Oktober 2017
Rechtsraum: WO
IPC: H01J37/04H01J37/05H01J37/29

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Hitachi High-Technologies Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hitachi High-Tech Corporation

Japanisches Unternehmen der Hitachi-Gruppe, spezialisiert auf Analysegeräte, medizinische Diagnostik und Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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