Photosensitive resin composition, photosensitive resin film, method for producing cured product, laminate, and electronic component

WO2017168699 Art A1 5. Oktober 2017

Anmelder: Hitachi Chemical Company, Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2017168699
Aktenzeichen: EP16896916
Anmeldetag: 31. März 2016
Veröffentlichung: 5. Oktober 2017
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/031G03F7/027G03F7/029

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Hitachi Chemical Company, Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hitachi Chemical

Ehemaliges japanisches Chemieunternehmen, das Materialien für Halbleiter, Batterien und Verbundwerkstoffe herstellte. Ging nach mehreren Umfirmierungen im Konzern Resonac auf.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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