Radiation-sensitive composition and pattern formation method

WO2017169440 Art A1 5. Oktober 2017

Anmelder: JSR Corporation, Cornell University 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2017169440
Aktenzeichen: EP17773985
Anmeldetag: 27. Februar 2017
Veröffentlichung: 5. Oktober 2017
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/004B41C1/055B41N1/14

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: JSR Corporation
Cornell University
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

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🇺🇸 Cornell University

Die Cornell University ist eine private Universität in Ithaca, New York (USA), die in Forschung und Lehre über zahlreiche natur- und ingenieurwissenschaftliche Fachrichtungen aktiv ist.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik

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