Active light sensitive or radiation sensitive resin composition, pattern forming method and method for manufacturing electronic device

WO2017169626 Art A1 5. Oktober 2017

Anmelder: FUJI-FILM Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2017169626
Aktenzeichen: EP17774171
Anmeldetag: 9. März 2017
Veröffentlichung: 5. Oktober 2017
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/039G03F7/038

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: FUJI-FILM Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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