Reflective mask blank, reflective mask and method for manufacturing semiconductor device

WO2017169658 Art A1 5. Oktober 2017

Anmelder: HOYA Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2017169658
Aktenzeichen: EP17774202
Anmeldetag: 10. März 2017
Veröffentlichung: 5. Oktober 2017
Rechtsraum: WO
IPC: G03F1/24G03F1/26G03F7/20H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: HOYA Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hoya

Japanischer Konzern mit Sitz in Tokio, aktiv in den Bereichen optische Gläser, Halbleiterfotomasken und medizinische Endoskopie- sowie Augenheilkundeprodukte.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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