Active light sensitive or radiation sensitive resin composition, resist film, pattern forming method, method for manufacturing electronic device, mask blank with resist film, and pattern forming method for mask blank with resist film

WO2017169746 Art A1 5. Oktober 2017

Anmelder: Fujifilm Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2017169746
Aktenzeichen: EP17774290
Anmeldetag: 14. März 2017
Veröffentlichung: 5. Oktober 2017
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/004C08F12/24G03F7/038G03F7/039G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Fujifilm Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

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Fachgebiete

Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

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