Resist pattern formation method and resist

WO2017169807 Art A1 5. Oktober 2017

Anmelder: Zeon Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2017169807
Aktenzeichen: EP17774351
Anmeldetag: 15. März 2017
Veröffentlichung: 5. Oktober 2017
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/38G03F7/004G03F7/038G03F7/20G03F7/26H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Zeon Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Zeon

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Zeon Corporation entwickelt synthetische Kautschuke, Spezialchemikalien und Elastomere für Anwendungen in Automobil-, Elektronik- und Batterieindustrie.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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