Treatment liquid for semiconductor production and pattern formation method

WO2017169834 Art A1 5. Oktober 2017

Anmelder: FUJIFILM Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2017169834
Aktenzeichen: EP17774378
Anmeldetag: 16. März 2017
Veröffentlichung: 5. Oktober 2017
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/32H01L21/304

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: FUJIFILM Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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