Mg-ti-o sputtering target and production method therefor

WO2017170152 Art A1 5. Oktober 2017

Anmelder: JX Nippon Mining & Metals Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2017170152
Aktenzeichen: EP17774690
Anmeldetag: 23. März 2017
Veröffentlichung: 5. Oktober 2017
Rechtsraum: WO
IPC: C23C14/34C04B35/04

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JX Nippon Mining & Metals Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JX Nippon Mining & Metals

JX Nippon Mining & Metals Corporation ist ein japanisches Unternehmen der Nichteisenmetallindustrie, das Kupfer, Halbleitermaterialien und Metallverarbeitung herstellt, Teil der ENEOS-Gruppe.

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Fachgebiete

Anorganische Chemie & Werkstoffe Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von