Film formation mask, method for manufacturing same, and method for repairing film formation mask

WO2017170172 Art A1 5. Oktober 2017

Anmelder: V Technology Co., Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2017170172
Aktenzeichen: EP17774710
Anmeldetag: 23. März 2017
Veröffentlichung: 5. Oktober 2017
Rechtsraum: WO
IPC: C23C14/04C23C14/24

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: V Technology Co., Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 V Technology

V Technology ist ein japanischer Hersteller von Fertigungsanlagen für Displays und Halbleiter. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Halbleiter und elektrische Bauelemente sowie Optik und Fototechnik, ergänzt um Fertigungs- und Messtechnik. Anmeldungen laufen von 2005 bis in die Gegenwart.

349 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von