Method for manufacturing chemical solution for manufacturing electronic material, pattern forming method, method for manufacturing semiconductor device, chemical solution for manufacturing electronic device, container, and quality inspection method
WO2017170428
Art A1
5. Oktober 2017
Anmelder: Fujifilm Corporation 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2017170428
- Aktenzeichen
- EP17774965
- Anmeldetag
- 27. März 2017
- Veröffentlichung
- 5. Oktober 2017
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- G03F7/26G03F7/11G03F7/32G03F7/40G03F7/42H01L21/027
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Fujifilm Corporation
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Fujifilm
Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.
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