Photosensitive resin composition, method for manufacturing cured relief pattern, and semiconductor apparatus

WO2017170600 Art A1 5. Oktober 2017

Anmelder: Asahi Kasei Kabushiki Kaisha 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2017170600
Aktenzeichen: EP17775137
Anmeldetag: 28. März 2017
Veröffentlichung: 5. Oktober 2017
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/027G03F7/004G03F7/031

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Asahi Kasei Kabushiki Kaisha
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Asahi Kasei

Asahi Kasei ist ein japanischer Mischkonzern mit Sitz in Tokio, der in den Bereichen Chemie und Kunststoffe, Wohnungsbau sowie Medizintechnik tätig ist. Das 1922 gegründete Unternehmen zählt zu den größten Chemiekonzernen Japans.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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