Resist Underlayer Film Forming Composition Which Contains Compound Having Glycoluril Skeleton As Additive
WO2017170696
Art A1
5. Oktober 2017
Anmelder: Nissan Chemical Corporation 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2017170696
- Aktenzeichen
- EP17775230
- Anmeldetag
- 29. März 2017
- Veröffentlichung
- 5. Oktober 2017
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- G03F7/11C08K5/3445C08L63/00G03F7/20H01L21/027
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Nissan Chemical Corporation
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Nissan Chemical Corporation
Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio, das agrochemische Wirkstoffe, elektronische Materialien sowie Feinchemikalien für die Halbleiterindustrie herstellt. Das Unternehmen wurde 1887 gegründet und hieß bis 2015 Nissan Chemical Industries.
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