Ferromagnetic resonance testing of buried magnetic layers of whole wafer

WO2017171848 Art A1 5. Oktober 2017

Anmelder: INTEL Corporation 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2017171848
Aktenzeichen: EP16897388
Anmeldetag: 1. April 2016
Veröffentlichung: 5. Oktober 2017
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/66H01L43/12G01R23/16G01R31/26

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: INTEL Corporation
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Intel

US-amerikanischer Halbleiterhersteller mit Sitz in Kalifornien. Entwickelt und produziert Prozessoren, Chipsätze sowie weitere Halbleiterkomponenten für Computer, Server und eingebettete Systeme.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik

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