Systems, methods, and apparatuses for implementing critical dimension (cd) and phase calibration of alternating phase shift masks (apsm) and chromeless phase lithography (cpl) masks for modeling

WO2017171880 Art A1 5. Oktober 2017

Anmelder: INTEL Corporation, Tien, Ming-Chun, Jeong, Seongtae, Grunes, Harsha 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2017171880
Aktenzeichen: EP16897418
Anmeldetag: 1. April 2016
Veröffentlichung: 5. Oktober 2017
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/027G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: INTEL Corporation
Tien, Ming-Chun
Jeong, Seongtae
Grunes, Harsha
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Intel

US-amerikanischer Halbleiterhersteller mit Sitz in Kalifornien. Entwickelt und produziert Prozessoren, Chipsätze sowie weitere Halbleiterkomponenten für Computer, Server und eingebettete Systeme.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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