Methods and apparatus for more efficient ray tracing of instanced geometry

WO2017171959 Art A1 5. Oktober 2017

Anmelder: Intel IP Corporation 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2017171959
Aktenzeichen: EP17776022
Anmeldetag: 4. Januar 2017
Veröffentlichung: 5. Oktober 2017
Rechtsraum: WO
IPC: G06T15/06G06T17/00G06T7/11G06T1/60

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: Intel IP Corporation
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Intel

US-amerikanischer Halbleiterhersteller mit Sitz in Kalifornien. Entwickelt und produziert Prozessoren, Chipsätze sowie weitere Halbleiterkomponenten für Computer, Server und eingebettete Systeme.

26.637 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Software & Datenverarbeitung

Vertreten von