Surface finishes for high density interconnect architectures

WO2017172204 Art A2 5. Oktober 2017

Anmelder: Intel Corporation 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2017172204
Aktenzeichen: EP17776207
Anmeldetag: 1. März 2017
Veröffentlichung: 5. Oktober 2017
Rechtsraum: WO
IPC: H01L23/00H01L23/498H01L21/60

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Intel Corporation
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Intel

US-amerikanischer Halbleiterhersteller mit Sitz in Kalifornien. Entwickelt und produziert Prozessoren, Chipsätze sowie weitere Halbleiterkomponenten für Computer, Server und eingebettete Systeme.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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