Controlling dry etch process characteristics using waferless dry clean optical emission spectroscopy

WO2017172536 Art A1 5. Oktober 2017

Anmelder: Tokyo Electron Limited 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2017172536
Aktenzeichen: EP17776361
Anmeldetag: 24. März 2017
Veröffentlichung: 5. Oktober 2017
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/3065H01L21/66H01L21/02H01L21/67H05H1/46

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Tokyo Electron Limited
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

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Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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